X射線熒光光譜按分離特征譜線的方法分為哪幾種
X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。......閱讀全文
X射線熒光光譜按分離特征譜線的方法分為哪幾種
X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。
X射線熒光（XRF）：理解特征X射線
什么是XRF？ X射線熒光定義：由高能X射線或伽馬射線轟擊激發材料所發出次級（或熒光）X射線。這種現象廣泛應用于元素分析。 XRF如何工作？ 當高能光子（X射線或伽馬射線）被原子吸收，內層電子被激發出來，變成“光電子”，形成空穴，原子處于激發態。外層電子向內層躍遷，發射出能量等于兩級能
X射線熒光光譜儀和X射線熒光能譜儀特點對比
X射線熒光光譜儀和X射線熒光能譜儀各有優缺點。前者分辨率高，對輕、重元素測定的適應性廣。對高低含量的元素測定靈敏度均能滿足要求。后者的X射線探測的幾何效率可提高2～3數量級，靈敏度高。可以對能量范圍很寬的X射線同時進行能量分辨(定性分析)和定量測定。對于能量小于2萬電子伏特左右的能譜的分辨率差。
X射線熒光光譜原理
X射線熒光光譜分析在20世紀80年代初已是一種成熟的分析方法，是實驗室、現場分析主、次量和痕量元素的方法之一。 X射線熒光光譜儀（XRF）是利用原級X射線或其他光子源激發待測物質中的原子，使之產生熒光（次級X射線），從而進行物質成分分析的儀器。X射線熒光光譜儀又稱XRF光譜儀，有波長色散型和能
x射線衍射、x熒光、直讀光譜區別
1、X射線衍射儀是利用衍射原理,精確測定物質的晶體結構,織構及應力,精確的進行物相分析,定性分析,定量分析.廣泛應用于冶金,石油,化工,科研,航空航天,教學,材料生產等領域. X射線衍射儀是利用X射線衍射原理研究物質內部微觀結構的一種大型分析儀器,廣泛應用于各大、專院校,科研院所及廠礦企業. 基
X射線熒光光譜的概念
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按
X射線熒光光譜和熒光光譜－區別
一、理論上。熒光光譜是比較寬的概念，包括了X射線熒光光譜。二、從儀器分析上，熒光光譜分析可以分為：X射線熒光光譜分析、原子熒光光譜分析，1）X射線熒光光譜分析——發射源是Rh靶X光管2）原子熒光光譜分析——可用連續光源或銳線光源。常用的連續光源是氙弧燈，常用的銳線光源是高強度空心陰極燈、無極放電燈、
X射線熒光光譜儀X射線吸收的介紹
當X射線穿過物質時，一方面受散射作用偏離原來的傳播方向，另一方面還會經受光電吸收。光電吸收效應會產生X射線熒光和俄歇吸收，散射則包含了彈性和非彈性散射作用過程。 當一單色X射線穿過均勻物體時，其初始強度將由I0衰減至出射強度Ix，X射線的衰減符合指數衰減定律： 式中，μ為質量衰減系數；ρ為樣
X射線熒光光譜儀X射線的衍射介紹
相干散射與干涉現象相互作用的結果可產生X射線的衍射。X射線衍射與晶格排列密切相關，可用于研究物質的結構。 其中一種用已知波長λ的X射線來照射晶體樣品，測量衍射線的角度與強度，從而推斷樣品的結構，這就是X射線衍射結構分析（XRD）。 另一種是讓樣品中發射出來的特征X射線照射晶面間距d已知的晶體
概述X射線熒光光譜儀X射線的產生
根據經典電磁理論，運動的帶電粒子的運動速度發生改變時會向外輻射電磁波。實驗室中常用的X射線源便是利用這一原理產生的：利用被高壓加速的電子轟擊金屬靶，電子被金屬靶所減速，便向外輻射X射線。這些X射線中既包含了連續譜線，也包括了特征譜線。 1、連續譜線 連續光譜是由高能的帶電粒子撞擊金屬靶面時受
X射線熒光光譜儀X射線散射的介紹
除光電吸收外，入射光子還可與原子碰撞，在各個方向上發生散射。散射作用分為兩種，即相干散射和非相干散射。 相干散射：當X射線照射到樣品上時，X射線便與樣品中的原子相互作用，帶電的電子和原子核就跟隨著X射線電磁波的周期變化的電磁場而振動。因原子核的質量比電子大得多，原子核的振動可忽略不計，主要是原
X熒光中干擾譜線的來源及消除方法
在X射線光譜分析中,由于譜線之前互相干擾比較少,并且減少這種干擾的方法較多,在多數情況下譜線干擾現象不是影響分析結果的主要因素。但是在某些情況如稀土化合物中稀土元素的測定中,譜線重疊現象仍然是嚴重的。這種干擾,輕則影響強度的確定,增加分析線強度測量的統計誤差,降低分析元素的測定靈敏度;重則是某些分析
WD－XRF是什么意思
X射線熒光光譜按分離特征譜線的方法分為波色散型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。
特征x射線與熒光x射線的產生機理有何異同
產生的機理不同，特征X射線是由電子撞擊金屬靶，使金屬原子中的K層L層M層等等層的核外電子被激發形成空位，外層電子躍入該空位，多余的能量產生X射線，熒光X射線則是由X射線或其他電磁波照射原子使原子核外電子激發形成空位，外層電子躍入空位產生X射線，二者都可以表示元素種類，但是產生一個是由電子引起，一個是
什么是X射線熒光光譜
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按
X射線熒光光譜法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶劑，將鎢精礦粉和純WO3作高倍稀釋熔融制成玻璃片，按WLα分析線X射線熒光光譜儀測定其強度值，換算成相對強度即可得出試樣中三氧化鎢的含量。此法適用于鎢精礦中w(WO3)為0.5%～80%的試樣。儀器波長色散X射線熒光光譜儀器儀，銠靶X光管(≥3kW)。高溫熔
X－射線熒光光譜儀
用X射線照射試樣時，試樣可以被激發出各種波長的熒光X射線，需要把混合的X射線按波長（或能量）分開，分別測量不同波長（或能量）的X射線的強度，以進行定性和定量分析，為此使用的儀器叫X射線熒光光譜儀。由于X光具有一定波長，同時又有一定能量，因此，X射線熒光光譜儀有兩種基本類型：波長色散型和能量色散型。圖
X射線熒光光譜法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶劑，將鎢精礦粉和純WO3作高倍稀釋熔融制成玻璃片，按WLα分析線X射線熒光光譜儀測定其強度值，換算成相對強度即可得出試樣中三氧化鎢的含量。此法適用于鎢精礦中w(WO3)為0.5%～80%的試樣。儀器波長色散X射線熒光光譜儀器儀，銠靶X光管(≥3kW)。高溫熔
X射線熒光光譜儀X射線光管結構
常規X射線光管主要采用端窗和側窗兩種設計。普通X射線光管一般由真空玻璃管、陰極燈絲、陽極靶、鈹窗以及聚焦柵極組成，并利用高壓電纜與高壓發生器相接，同時高功率光管還需要配有冷卻系統。側窗和端窗X射線光管結構如圖6和圖7所示。 當電流流經X射線光管燈絲線圈時，引起陰極燈絲發熱發光，并向四周發射電子
WDXRF（波譜）與EDXRF(能譜)有哪些區別之處
X射線熒光光譜法，是用X射線管發出的初級線束輻照樣品，激發各化學元素發出二次譜線（X-熒光）。X射線熒光分析儀分為波長色散型（WD-XRF）與能量色散型（ED-XRF）兩種。兩者雖然同屬于X射線熒光分析儀，產生信號的方法相同，后得到的波譜也極為相似，但由于采集數據的方式不同，兩者在原理和儀器結構上有
X射線熒光光譜儀的分析方法介紹
X射線熒光光譜儀具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點，分為波長色散、能量色散、非色散X熒光、全反射X熒光。分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。X射線熒光光譜法有如下特點：?分析的元素范圍廣，從4Be到92U均可測定；熒光X射線譜線簡單，相互干擾少，樣品不必分離，分析方
X射線熒光光譜儀的分析方法介紹
X射線熒光光譜儀具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點，分為波長色散、能量色散、非色散X熒光、全反射X熒光。分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。X射線熒光光譜法有如下特點：?分析的元素范圍廣，從4Be到92U均可測定；熒光X射線譜線簡單，相互干擾少，樣品不必分離，分析方
X射線熒光光譜技術的原理
所有XRF儀器都擁有兩個主要成分，一個是X射線源，一般采用X射線管，另一個則是探頭。X射線源會發出初級X射線到樣品表面，有時會通過濾光器對X射線束進行調整。在光束擊打樣品原子時，會產生次級X射線，這些次級X射線會被探頭收集并處理。 比較穩定的原子是由原子核及繞核旋轉的電子構成，電子按照能量層級
關于X射線熒光光譜的介紹
X射線熒光光譜(XRF, X Ray Fluorescence)是通常把X射線照射在物質上而產生的次級X射線叫X射線熒光(X-Ray Fluorescence)，受激發的樣品中的每一種元素會放射出X射線熒光，并且不同的元素所放射出的X射線熒光具有特定的能量特性或波長特性。探測系統測量這些放射出來
X射線管激發X熒光光譜連續本底扣除方法研究
X射線管是目前X射線熒光光譜分析中最常采用的激發源,它所產生的原級譜成為了X熒光光譜中本底成分的主要來源,在對這種光譜進行進一步的分析處理之前需要對其本底進行扣除,對本底估計的準確性直接影響后續處理步驟的效果。對射線管激發X熒光光譜的成分進行了分析,針對其本底特點構造了一種本底強度的估計方法,并根據
X射線衍射儀與X射線熒光光譜儀的區別
X射線衍射儀（XRD）是礦物學研究領域內的主要儀器,用于對結晶物質的定性和定量分析。X射線熒光光譜儀（XRF）是通過測定二次熒光的能量來分辨元素的，可做定量或定性分析。兩種儀器構造與使用對象不同，XRD要復雜，XRF通常比較小。
X射線衍射儀與X射線熒光光譜儀的區別
x射線熒光和x射線衍射的區別在于前者是對材料進行成份分析的儀器，而后者則主要是對材料進行微觀結構分析以便確定其物理性狀的設備。
X射線衍射儀與X射線熒光光譜儀的區別
x射線熒光和x射線衍射的區別在于前者是對材料進行成份分析的儀器，而后者則主要是對材料進行微觀結構分析以便確定其物理性狀的設備。
X射線熒光光譜儀X射線防護系統的故障分析
為了防止X射線泄漏，高壓發生器只有在射線防護系統正常的情況下才能啟動。射線防護系統正常與否，主要檢查以下二部分： 1、面板的位置是否正常。X射線熒光光譜儀是一個封閉系統，面板是最外層的射線防護裝置，如果有一塊面板不到位，儀器就有射線泄漏的可能。因此，每塊面板上都有位置接觸傳感器，面板沒有完全合
X射線衍射儀與X射線熒光光譜儀的區別
X射線衍射儀（XRD）是礦物學研究領域內的主要儀器,用于對結晶物質的定性和定量分析。X射線熒光光譜儀（XRF）是通過測定二次熒光的能量來分辨元素的，可做定量或定性分析。兩種儀器構造與使用對象不同，XRD要復雜，XRF通常比較小。