軟X射線投影光刻技術是現有可見-近紫外投影光刻技術向軟X射線波段(1～30nm)的延伸。但是，由于此波段任何材料的折射率均接近于1，而且吸收較大，微縮投影光學系統必須采用反射系統，而單層膜反射鏡對正入射軟X 射線的反射率幾乎為零，無法利用其組成正入射系統。70年代后，隨著超光滑表面加工技術和超薄膜制備技術的不斷提高，目前人們制備的13nm Mo/Si多層膜反射率已接近70%，這使人們利用多層膜反射鏡集成軟X射線投影光刻系統成為可能。
人類賴以生存的空間被地球內稟磁場形成的磁層保護，磁層的外邊界稱為磁層頂。近些年，有研究發現磁層頂附近區域在軟X射線波段是明亮的。軟X射線的輻射機制是太陽風電荷交換（SolarWindChargeExc......
近日，中國科學院上海高等研究院、上海應用物理研究所自由電子激光團隊，在外種子自由電子激光研究方面取得重要進展，理論提出了一種相干能量調制的自放大機制，并基于上海軟X射線自由電子激光裝置（SXFEL）完......
軟X射線能譜測量是ICF實驗中的重要內容,測量意義重大。軟X射線能診斷通過光譜分析,可以得到X射線總的通量,輻射溫度,轉換效率以及反照率。這些都是間接驅動黑腔熱力學的重要參數。作為黑體腔特征診斷系統,......
掠射X射線分析是近年來迅速發展的一門分析技術，在科學研究以及分析檢測和質量控制等生產領域都有著廣泛的應用。X射線分析技術具有試樣無損分析、制樣經濟方便、操作簡單、分析結果重現性好及精度高等優點，使得這......
1月4日，由中科院和教育部共同組織的“軟X射線自由電子激光試驗裝置可行性研究報告評審會”在中科院上海應用物理研究所張江園區召開。評審專家組由加速器物理和技術、激光物理與技術、建筑安裝工程技術、工程預算......