新突破！全球范圍內納米級三維電鏡取向成像技術空白被填補

納米金屬研究在重慶取得新突破！12月1日，重慶大學作為第一完成單位和第一通訊作者單位，在全球頂級期刊《Science》（《科學》）發表最新研究成果論文——《納米分辨三維電鏡揭示變形鎳的異常晶格轉動》。這標志著由該校材料科學與工程學院黃曉旭團隊自主研發的空間分辨率僅1納米三維透射電鏡技術，填補了全球范圍內納米級三維電鏡取向成像技術的空白。

電子元器件中有很多微納器件，如果芯片想要做得更小、更好，需要對微納器件進行改進。“傳統的電子顯微鏡技術，只能觀察微納器件樣品的表層，或者觀察材料內部三維結構的二維投影，這大大限制了人們對材料微觀組織的認識，難以滿足我們相關研究的需要。”重慶大學材料科學與工程學院原院長黃曉旭教授介紹，過去20多年，在全球范圍內，空間分辨率在微米尺度的三維表征技術研發已取得了重要進展，其應用促進了材料科學領域的重要科學發現。但是，更多更深層次的材料科學問題需要納米級甚至原子級的三維表征技術。將空間分辨率從微米級提高到納米級，需要提高三個數量級，這是一個巨大的挑戰。

黃曉旭團隊經過10多年的不懈努力，在國家重點研發計劃等項目的支持下，成功研發了一系列基于電子衍射的三維透射電鏡技術，空間分辨率僅1納米，填補了全球范圍內納米級三維電鏡取向成像技術的空白，將大大促進三維材料科學的發展。

黃曉旭表示，該研究發現了納米金屬塑性應變可恢復的反常現象，并揭示了這一現象的物理本質，未來將探索在應變工程、新材料研發等領域的應用。對此，業內人士認為，這一研究為先進納米結構材料研發、納米材料使役行為的預測和控制以及微納器件功能優化提供理論指導。